作者 WOGEchidna (艾姬多娜)
標題 [新聞] 台積電改變想法?ASML 證實年底交貨 High
時間 Thu Jun  6 23:27:22 2024


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台積電改變想法?ASML 證實年底交貨 High-NA EUV 曝光機 | TechNews 科技新報
[圖]
半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 已交貨英特爾 (Intel) 首台商用 High-NA EUV 曝光機並安裝完畢,英特爾院士 Mark Phillips 確認設備年底啟用。相較英特爾,台積電似乎不急著加入競賽,台積電已於荷蘭技術論壇表明不立即購入這款昂貴半導體製造設備。 台積電表示幾年內都不 ...

 

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台積電改變想法?ASML 證實年底交貨 High-NA EUV 曝光機

3.原文來源(媒體/作者):例:蘋果日報/王大明(若無署名作者則不須)

TechNews!科技新報/Atkinson

4.原文內容:請刊登完整全文(否則依板規刪除並水桶)。

半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML) 已交貨英特爾 (Intel) 首台商用 High-NA EUV 曝光
機並安裝完畢,英特爾院士 Mark Phillips 確認設備年底啟用。相較英特爾,台積電似
乎不急著加入競賽,台積電已於荷蘭技術論壇表明不立即購入這款昂貴半導體製造設備。

台積電表示幾年內都不需要高階 EUV,且價格也非常高昂。分析師預測,台積電可能要

到 2030 年甚至更晚才會購入 EUV。

不過才過幾個月,台積電似乎改變想法。外媒報導,ASML 發言人 Monique Mols 說年底
會交貨每套價值 3.8 億美元的 High-NA EUV,ASML 財務長 Roger Dassen 也證實,兩大
客戶台積電和英特爾年底會收到 High-NA EUV。受此消息影響,ASML 股價開盤後上漲超
過 6%。


英特爾 2022 年宣布簽約購買五套 TWINSCAN NXE:3600D,2025 年 Intel 18A 先進製程
測試與訓練。先進曝光技術是尖端晶片製造不可或缺的關鍵,且 High-NA EUV 有望降低
66% 晶片大小。ASML 官方透露,High-NA EUV 比標準 EUV 體積大 30%,需三架以上波
音 747 貨機運載。


台積電已宣布,2 奈米製程發展順利,並 2025 下半年推出 N3X、N2 製程,2026 下半年
量產 N2P 和 A16 先進製程。與已量產 3 奈米不同,將量產的 2 奈米為
Gate-all-around FETs(GAAFET)電晶體,較 3 奈米性能提升 10%~15%,功耗降低
25%~30%。

台積電董事長魏哲家缺席年度技術論壇台北場,改拜訪荷蘭 ASML 總部,外界解讀為台積
電對 High-NA EUV 的態度轉變,因接下來先進製程不可或缺性與競爭對手英特爾已購入
設備,故台積電下一步動作對維持市場優勢都是關鍵,值得後續觀察。


5.心得/評論:內容須超過繁體中文30字(不含標點符號)。

FINFET的發展已經走到盡頭,接下來是GAAFET的全新戰場

雖然不曉得台積電當時的想法和現在的想法落差如此巨大的原因

但是三星和英特爾都在虎視眈眈

不能拿未來去賭"他們是否有能力製造最先進的製程",要直接搶在他們前面

後面甚至還有一位"不惜任何代價"、"集全國之力",各種名義上都是"敵"手的人

尤其是黃仁勳、蘇姿丰等科技界大咖都在陸續加碼台灣的現在

如同文章最後所說,台積電下一步動作對維持市場優勢都是關鍵

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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 125.229.107.20 (臺灣)
※ 作者: WOGEchidna 2024-06-06 23:27:22
※ 文章代碼(AID): #1cOTLSFw (MobileComm)
※ 文章網址: https://www.ptt.cc/bbs/MobileComm/M.1717687644.A.3FA.html
uodam64402: 應該就是1.4nm製程導入High NA光刻機了吧。
目前是2nm製程導入GAAFET、1.6nm導入晶背供電。1F 06/06 23:30
fly5566: 曝光機3F 06/06 23:57
uodam64402: 好的,曝光機(我又搞錯了…)4F 06/07 00:09
TIPPK: ok 等2026再換手機5F 06/07 00:33
geesegeese: 有差嗎?還不是用N3E奪下市場6F 06/07 01:10
hedgehogs: 曝光機怎麼了?7F 06/07 03:26
payneblue: 〈台積技術論壇〉2024年將擁有ASML新一代High-NA EU2022就有新聞8F 06/07 07:06
gameguy: 運到台灣上高速公路,大家離遠一點啊,會怕10F 06/07 11:51
snowwolf725: 台灣:曝光機 大陸:光刻機11F 06/07 13:48

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