台積電可以關掉四台EUV曝光機（光刻機），但中國大陸卻完全買不到荷蘭ASML的EUV曝光
機，只能用DUV曝光機，還是DUV曝光機中的低階版本，來造華為的麒麟晶片。真得好慘。
所以說，中芯國際和華為配合，用性能很一般的DUV，製造出良率80%的7nm高端晶片，算
是非常不容易了。要知道，美國是想把中國的芯片製程鎖在14nm的！

但是，中芯國際基本上已經把DUV低階光刻機的潛能挖掘幹凈了，很難再將製程提高了。
荷蘭新放行了一些高階的DUV光刻機，中芯國際買到後或許可以把製程提高到5nm。。當然
中國自己的曝光機（上海微電子整機廠+ 一眾子系統提供商）如果能出來，那種震撼是遠
遠超過這次事件的。上個月看到一個大佬說，中國會在7個月內形成14nm的全國產化產業
鏈。按這個說法，大陸自產的DUV曝光機（14nm製程），可以在6個月內出現。這才是值得
我個人去激動的消息。這個14nm的光刻機，其意義相當於當年中國大陸戰鬥機殲10的最初
始版，等慢慢叠代到高階的DUV光刻機，就相當於4.5代戰機殲10C。。最後突破EUV光刻機
，也就相當於殲20了。但是，到用國產的DUV和EUV成熟穩定地生產高階芯片，還有很長的
路要走，這段時間內，西方半導體產業鏈（荷蘭ASML+台積電+日本化學材料）還會叠代進
步。我認為華為未來10年還有被蘋果，三星落下的極大可能性。原因就是1，中芯國際的
DUV光刻機很難再挖潛了。2，國產光刻機商用還很遠。

下一個應該就是半導體產業。中國的工業種類非常齊全，例如曝光機用的光源，物鏡，雙
工件台，中國大陸都有研發機構/公司在研發，也不時傳出一些技術突破的消息。大家就
拭目以待吧。

註：中國大陸買不到EUV光刻機這件事情，可不是從川普的科技戰才開始的。從1996年以
美國為首的西方國家在荷蘭簽署瓦瑟納爾協定開始，就明確、條文化了對中國的高科技出
口的限製。所以，2013年EUV曝光機量產，川普是2018年掀起貿易戰/科技戰的，但川普之
前，中國大陸也拿不到EUV光刻機。