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1.原文連結：
https://www.cnbeta.com/articles/tech/1054041.htm

2.原文內容：

韓國企業發力EUV光刻技術 專利申請量佔上風









如果按照詳細的技術項目來劃分，處理技術（process technology）的專利申請量佔32％
；曝光設備技術（exposure device technology）的專利申請量佔31％；膜技術（mask
technology）佔比為 28%，其他為 9%。

在工藝技術領域，三星電子佔39％，台積電佔15％，這意味著兩家公司佔54％。在膜領域
，S＆S Tech佔28％，Hoya（日本）佔15％，Hanyang University（韓國）佔10％，
Asahi Glass（日本）佔10％，三星電子佔9％。

3.心得/評論：

沒想到EUV專利申請量韓國佔比那麼高

然後三星在EUV每個領域的專利佔比都不小

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